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N沟道mos管(guan)集成电路

信息来源:本站(zhan) 日期(qi):2017-03-27 

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MOS管也有N沟道和P沟道之分,并且每一类又分为增强型和耗尽(jin)型两种,二者的差别是增强型MOS管在栅-源电压vGS=0时,漏-源极之间没有MOS管跨(kua)导电沟道存在,纵(zong)然(ran)加上电(dian)(dian)(dian)压vDS(在一定的(de)(de)数(shu)字范(fan)围(wei)内),也没有(you)漏极(ji)电(dian)(dian)(dian)小产生(iD=0)。 在一块夹杂液体浓(nong)度(du)较(jiao)低的(de)(de)P型硅衬底上,用光刻(ke)、廓张工艺制造两个高(gao)夹杂液体浓(nong)度(du)的(de)(de)N+区,并用金属铝引出(chu)两个电(dian)(dian)(dian)极(ji),道别作(zuo)漏极(ji)d和源(yuan)极(ji)s。显然(ran)它(ta)的(de)(de)栅(zha)极(ji)与(yu)其他电(dian)(dian)(dian)极(ji)间是(shi)绝缘的(de)(de)。并且,由(you)于它(ta)的(de)(de)输入电(dian)(dian)(dian)阻是(shi)PN结的(de)(de)反偏电(dian)(dian)(dian)阻,在高(gao)温前提下办公时,PN结逆(ni)向电(dian)(dian)(dian)流增大,反偏电(dian)(dian)(dian)阻的(de)(de)阻值表面化减退。


结型(xing)场效应管(guan)(guan)(guan)的输(shu)入(ru)电(dian)(dian)阻虽然可达106~109W,但在(zai)要(yao)(yao)求输(shu)入(ru)电(dian)(dian)阻更高的场合(he),仍旧(jiu)不(bu)可以(yi)满足(zu)要(yao)(yao)求。与结型(xing)场效应管(guan)(guan)(guan)不(bu)一样,金属-氧气(qi)化物-半(ban)(ban)导(dao)体(ti)场效应管(guan)(guan)(guan)(MOSFET)的栅(zha)极(ji)(ji)与半(ban)(ban)导(dao)体(ti)之(zhi)距离有(you)二(er)氧气(qi)化硅(SiO2)绝缘(yuan)(yuan)媒(mei)介(jie),使栅(zha)极(ji)(ji)处于(yu)绝缘(yuan)(yuan)状况(故(gu)(gu)又叫作绝缘(yuan)(yuan)栅(zha)场效应管(guan)(guan)(guan)),故(gu)(gu)而它的输(shu)入(ru)电(dian)(dian)阻可高达1015W。而耗尽型(xing)MOS管(guan)(guan)(guan)在(zai)vGS=0时,漏-源极(ji)(ji)间就有(you)导(dao)电(dian)(dian)沟道存(cun)在(zai)。

N沟道金(jin)属-氧气(qi)化物-半导(dao)体场效应管(MOS管)的结构及办(ban)公原(yuan)理:

N沟道(dao)mos管结(jie)构和(he)工作(zuo)原理。

P沟道加强型(xing)MOS管(guan)的(de)(de)箭头(tou)方向与(yu)上(shang)(shang)(shang)面所说的(de)(de)相反。额外(wai)在(zai)衬底(di)上(shang)(shang)(shang)也引出一(yi)(yi)个(ge)(ge)(ge)电(dian)极(ji)(ji)(ji)B,这就构成了一(yi)(yi)个(ge)(ge)(ge)N沟道(dao)增强型(xing)MOS管(guan)。它的(de)(de)另一(yi)(yi)个(ge)(ge)(ge)优点是(shi)制(zhi)作工艺简朴,适于(yu)制(zhi)作大规(gui)模及超大规(gui)模集成电(dian)路。而(er)后(hou)在(zai)半导体外(wai)表复盖(gai)一(yi)(yi)层(ceng)很薄的(de)(de)二氧气化硅(SiO2)绝缘(yuan)层(ceng),在(zai)漏-源极(ji)(ji)(ji)间的(de)(de)绝缘(yuan)层(ceng)上(shang)(shang)(shang)再装上(shang)(shang)(shang)一(yi)(yi)个(ge)(ge)(ge)铝电(dian)极(ji)(ji)(ji),作为栅极(ji)(ji)(ji)g。




例1N沟道加强型场效应管结构



例2N沟道加强型(xing)MOS管代表符号(hao)




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