mos管(guan)规格书参(can)数详解-图文读懂MOS管(guan)规格书每(mei)一个MOS参(can)数-KIA MOS管(guan)
信息来源:本(ben)站 日期:2019-04-02
在了解mos管规格书(shu)参(can)(can)数(shu)(shu)详解之前,先来看看mos管的(de)每一个参(can)(can)数(shu)(shu)代表什(shen)么及(ji)说明,mos管除了G、S、D引脚(jiao)和(he)N沟(gou)道(dao)mos管和(he)P沟(gou)道(dao)mos管之外还(hai)有(you)很(hen)多具体的(de)参(can)(can)数(shu)(shu),每个详细参(can)(can)数(shu)(shu)如下:
Rds(on)----------DS的导通电(dian)阻.当Vgs=10V时,MOS的DS之间的电(dian)阻
Id------------------最大DS电流(liu).会随(sui)温(wen)度的升高而(er)降低(di)
Vgs----------------最大GS电压.一般为:-40V~+40V
Idm---------------最大脉(mai)冲DS电流.会随(sui)温度的升高而(er)降低,体现一(yi)个抗(kang)冲击能力(li),跟(gen)脉(mai)冲时间(jian)也有关系(xi)
Pd-----------------最大耗(hao)散功率
Tj------------------最大工作结温,通常为150度和175度
Tstg---------------最大存储温度
Iar-----------------雪崩电流
Ear---------------重(zhong)复雪崩击穿能(neng)量
Eas---------------单次脉(mai)冲雪崩击穿能量
BVdss------------DS击穿电压
Idss---------------饱和DS电(dian)流(liu),uA级的(de)电(dian)流(liu)
Igss---------------GS驱动(dong)电流,nA级的(de)电流.
gfs----------------跨导
Qg----------------G总充电(dian)电(dian)量
Qgs--------------GS充(chong)电电量(liang)
Qgd-------------GD充电电量
Td(on)---------导通延迟(chi)时间,从有输(shu)入电压上(shang)升到(dao)10%开始到(dao)Vds下降到(dao)其幅(fu)值90%的时间
Tr----------------上升时(shi)间(jian)(jian),输出电压 VDS 从(cong) 90% 下降到其幅值 10% 的时(shi)间(jian)(jian)
Td(off)----------关断延迟时间,输入电压(ya)下(xia)降到(dao) 90% 开始到(dao) VDS 上升到(dao)其关断电压(ya)时 10% 的时间
Tf-----------------下降时间(jian)(jian),输出电压 VDS 从 10% 上升到其(qi)幅值 90% 的时间(jian)(jian)
Ciss---------------输入电(dian)容,Ciss=Cgd + Cgs.
Coss--------------输(shu)出(chu)电容,Coss=Cds +Cgd.
Crss---------------反向(xiang)传输电(dian)容,Crss=Cgc.
说明(ming):MOS管漏极和源极最(zui)大耐压值(zhi)。
测试(shi)条件:在Vgs=0V,栅极和源(yuan)极不(bu)给电(dian)压。
影响:超过(guo)的话(hua)会(hui)让MOSFET损坏(huai)。
说(shuo)明:ID的漏电流。
测试(shi)条件(jian):在Vgs=0V,在漏极和源极两(liang)端给48V的电(dian)压。
影响(xiang):漏(lou)电流越(yue)(yue)大(da)功耗(hao)越(yue)(yue)大(da)。
)
说明:栅极漏(lou)电流
测试条件:在(zai)Vgs=+-20V,在(zai)漏极和源极两端不给(ji)电压。
说明(ming):开启电(dian)压
测(ce)试条(tiao)件:在Vgs=Vds,在漏极和(he)源极两端电流控(kong)制在250uA。
影响:低于(yu)参考值可能出现不导通现象(xiang),设计时需要考虑(lv)范围值。
说明:完全开启,漏极和(he)源极两(liang)端最大过电流(liu)30A,
测试条件:在(zai)Vgs=Vds,在(zai)漏极(ji)和(he)源极(ji)两端电流控(kong)制(zhi)在(zai)250uA。
影响:低于(yu)参(can)考(kao)值可能出现(xian)不导通(tong)现(xian)象(xiang),设计时需要考(kao)虑(lv)范围值。
说明:导通时,Vds的内阻
测试条件:在(zai)Vgs=10V,通(tong)过12A的电(dian)流(liu)(liu);Vgs=4.5V,通(tong)过6A的电(dian)流(liu)(liu),在(zai)漏(lou)极和源极两端的内阻。
影响:内阻越(yue)小,MOS过的电(dian)流越(yue)大,相同电(dian)流下,功(gong)耗越(yue)小。
说明:跨导的(de)单位是(shi)A/V。是(shi)源极(ji)(ji)电(dian)流Id比上栅极(ji)(ji)电(dian)压Vgs,是(shi)栅极(ji)(ji)电(dian)压对源极(ji)(ji)电(dian)流的(de)控制作(zuo)用大小,
跨导:
线性压控电流源的性质可表示为(wei)方程 I=gV ,其中g是常数(shu)系数(shu)。系数(shu)g称作跨导(dao)(或转移电导(dao)),具有与电导(dao)相(xiang)同(tong)的单(dan)(dan)位。 这个电路单(dan)(dan)元(yuan)通常指(zhi)放(fang)大器(qi)。
在MOS管中,跨导的(de)(de)大小(xiao)反映了栅源电压对漏极电流的(de)(de)控制作用。在转移特(te)性曲(qu)线上,跨导为(wei)曲(qu)线的(de)(de)斜率。
说明:MOS管(guan)体二极管(guan)的正向导通压降
测(ce)试条(tiao)件:在VGS=0V,体二极管正(zheng)向通过1A的(de)电(dian)流。
说明:体二极(ji)管可承受最大(da)连续续电流
测(ce)试条件:
影(ying)响:如(ru)果(guo)偏小,在(zai)设(she)计降额(e)不充裕(yu)的(de)系统中或在(zai)测试OCP,OLP(逐周期电流限(xian)制(zhi)保护(hu)(OCP),限(xian)制(zhi)最大(da)输(shu)出电流;过(guo)(guo)载保护(hu)(OLP),限(xian)制(zhi)最大(da)输(shu)出功率;的(de)过(guo)(guo)程中会引起电流击穿的(de)风险
说明:
Ciss=Cgs+Cgd 输(shu)入电容
Coss=Cds+Cgd 输(shu)出电容
Crss=Cgd(米勒电容(rong))
影响(xiang):Ciss:影响(xiang)到(dao)MOS管的开(kai)关时(shi)间(jian),Ciss越大,同样驱动(dong)能力下,开(kai)通(tong)和(he)关断时(shi)间(jian)就(jiu)越慢,开(kai)关损坏也就(jiu)越大。较慢的开(kai)关速度(du)对应会带(dai)来较好的EMI
Coss和(he)Crss:这两项(xiang)参(can)数(shu)对MOSFET关断时(shi)间略有影响,其中Cgd会影响到(dao)漏极有异(yi)常高(gao)电压时(shi),传输到(dao)MOSFET栅极电压能力的大小,对雷击测(ce)试(shi)项(xiang)目(mu)有一点的影响。
说(shuo)明(ming):
Qg:栅(zha)极(ji)总充电电量
Qgs:栅(zha)极充(chong)电(dian)电(dian)量
Qgd:栅极充电(dian)电(dian)量
tD(on):漏源导通延迟(chi)时间
tr:漏源电路上升时间
tD(off):漏(lou)源关断延迟时(shi)间
tf:漏源电(dian)路下降时间
影响:参(can)数与时间相互(hu)关(guan)(guan)联的参(can)数,开关(guan)(guan)速(su)度越(yue)快对应的优点是开关(guan)(guan)损耗越(yue)小,效率高,温升低,对应的缺点是EMI特性差,MOSFET关(guan)(guan)断尖峰过(guo)高。
1.电(dian)(dian)路设计(ji)的(de)问题(ti),就(jiu)是(shi)让(rang)MOS管(guan)工作在线性的(de)工作状态(tai),而(er)不(bu)是(shi)在开关状态(tai)。这也(ye)是(shi)导致MOS管(guan)发热的(de)一个(ge)原因。如果N-MOS做开关,G级电(dian)(dian)压要比(bi)电(dian)(dian)源高几V,才能完全导通,P-MOS则(ze)相反(fan)。没有完全打开而(er)压降过大造成功率消耗(hao),等(deng)效直流阻(zu)抗比(bi)较大,压降增大,所以(yi)U*I也(ye)增大,损耗(hao)就(jiu)意味(wei)着发热。这是(shi)设计(ji)电(dian)(dian)路的(de)最忌(ji)讳的(de)错(cuo)误。
2.频率太高,主要是(shi)有(you)时过(guo)分追求体积,导致频率提高,MOS管上(shang)的损耗增大了(le),所以发热也加大了(le)。
3.没(mei)有做(zuo)好(hao)足(zu)够(gou)的(de)(de)散热设计,电流(liu)太高,MOS管标称的(de)(de)电流(liu)值,一(yi)般需要(yao)(yao)良好(hao)的(de)(de)散热才能达到。所(suo)以(yi)ID小于最大电流(liu),也可能发热严(yan)重,需要(yao)(yao)足(zu)够(gou)的(de)(de)辅助散热片。
4.MOS管的(de)选型(xing)有(you)误,对(dui)功率(lv)判断有(you)误,MOS管内(nei)阻没有(you)充(chong)分考虑(lv),导致开关阻抗增大(da)。
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